本次演講將帶領同學認識真空系統在 AI 晶片製造中的重要角色。隨著人工智慧運算需求快速成長，晶片製程對精密度與效能的要求也不斷提升，而真空鍍膜技術正是先進半導體製程中不可或缺的關鍵。透過高精度的薄膜沉積，不僅能改善晶片結構與材料特性，更有助於提升運算速度、降低能源消耗，並增強元件的穩定性與耐用度。賴文鋒經理將從實務經驗出發，介紹真空系統的基本原理、設備操作及其在 AI 晶片製程中的應用，同時分享產業目前面臨的技術挑戰與未來發展趨勢，幫助同學掌握真空技術與半導體產業的關聯。