第33屆系友陳俊光（1991年畢業），曾任台積電 (TSMC) 副處長，現為台灣艾司摩爾 (ASML) 科技股份有限公司協理，以及國立清華大學半導體研究學院產業兼任教授。專長為奈米微影製程、曝光顯影機、微影繞射理論。
此次他受邀於3月22日（三）回母系演講，以「Photolithography from TSMC to ASML」為題，跟大二學弟妹們講授微影技術（photolithography）對半導體製造的重要性及其前景，並分享他在業界的經歷以及成功的經驗。
講題：Photolithography from TSMC to ASML
時間 : 112/03/22星期三 10:20 ~ 12:10
講者 : 陳俊光 台灣艾司摩爾 (ASML) 科技股份有限公司協理
地點 : 大智慧科技大樓一樓 ST114 教室* ASML是來自荷蘭的半導體設備商，主要為研發並生產半導體製程中的最前端－微影技術所需的相關機台設備，是全世界唯一採用極紫外光(EUV)的微影設備製造商。在台灣主要的客戶有台積電、聯電、美光等等。
* 微影設備本質上是一個投影系統，利用光線穿透印有電路圖的光罩，在矽晶片上投印出電路圖。
參見：什麼是微影製程？
全球瘋搶 EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光，抑或是迴光返照？
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